超臨界二氧化碳超聲清洗系統(tǒng)

描述：SFE-35型超臨界二氧化碳超聲清洗系統(tǒng)

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對用等離子法清洗，該方法不會對硅片造成損傷，同時可減少工藝步驟，節(jié)省時間，提高工作效率。

更新時間：2025-12-29

產(chǎn)品型號：SFE-35型

所在城市：南通市

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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SFE-35型超臨界二氧化碳超聲清洗系統(tǒng)

一、概述：

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對用等離子法清洗，該方法不會對硅片造成損傷，同時可減少工藝步驟，節(jié)省時間，提高工作效率。

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備擁有良好的溫度和壓力控制系統(tǒng)，并配有遠(yuǎn)程智能化操作系統(tǒng)，是一個適合高校和科研機構(gòu)的半導(dǎo)體工藝平臺。該設(shè)備有望解決微電子行業(yè)清洗工藝中的許多難題，例如刻蝕以及灰化后高縱深比結(jié)構(gòu)清洗、刻蝕以及灰化后多孔低介電材料清洗、清洗后干燥、半導(dǎo)體器件金屬顆粒的清洗等

超臨界超聲清洗目前應(yīng)用領(lǐng)域很廣的是核電特種清洗、電子電路芯片的清洗以及精密機加工件的表面和層隙清洗。

二、應(yīng)用范圍：

在半導(dǎo)體方面，超臨界二氧化碳清洗逐步代替刻蝕及灰化后產(chǎn)生的高縱深比機構(gòu)和成品芯片上的輔焊劑、金屬殘屑采用傳統(tǒng)的去離子水沖洗、酸蝕浸泡清洗、清洗劑清洗；

在新能源電動汽車制造方面，超臨界二氧化碳清洗正被應(yīng)用于對車輪轂層析片微隙間的清洗油污、微粒作業(yè)；

在精密工件以及鈾屑方面，超臨界二氧化碳清洗的優(yōu)勢得到很大的發(fā)揮，其具有的清洗物分離簡單，收集方便，表面無需處理、環(huán)保節(jié)能被發(fā)揮得*；

三、SFE-35型超臨界二氧化碳超聲清洗系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)：

主要性能指標(biāo)	序號	項目名稱	性能參數(shù)
	1	工作壓力	≤40MPa
	2	工作溫度	室溫～90℃
	3	超聲波清洗釜	35L/40MPa
	4	清洗工裝	懸盤結(jié)構(gòu) 60-120r/min
	5	超聲波功率	2×1kW
	6	清洗釜	35L/40MPa
	7	清洗工裝	層式彈性結(jié)構(gòu) 1-8層
	8	回收釜	2×10L/30MPa
	9	制冷系統(tǒng)	12000kcal/h 溫控范圍：-5℃～﹢5℃ 風(fēng)冷
		二氧化碳儲罐	20L/16MPa
		二氧化碳泵	400L/h 40MPa 三柱塞變頻可調(diào) 泵頭帶冷卻
		助溶劑泵	4L/h 50MPa 雙柱塞機械調(diào)節(jié)
		自動化系統(tǒng)	液壓伺服控制，實現(xiàn)自動與手動切換
		電源	AC380V 50Hz 三相五線 30kW